德国ALLRESIST紫外光刻胶AR-N4340

来源：厦门良厦贸易有限公司 时间：2024-05-18 11:11:15 [举报]

德国 ALLRESIST 紫外光刻胶

1. 紫外光刻胶（Photoresist）

1）各种工艺：喷涂胶，化学放大胶，lift-off胶，图形反转胶，高分辨率胶，LIGA用胶等。

2）各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。

3）各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。

• 电子束光刻胶（电子束抗蚀剂）（E-beam resist）

1）电子束正胶：PMMA胶，PMMA/MA聚合物， LIGA用胶等。

2）电子束负胶：高分辨率电子束负胶，化学放大胶（高灵敏度电子束胶）等。

• 特殊工艺用光刻胶（Special manufacture/experimental sample）  

电子束曝光导电胶，耐酸碱保护胶，聚酰亚胺胶（耐高温保护胶），全息光刻用胶，长波曝光胶，深紫外曝光胶等特殊工艺用胶。

4.配套试剂（Process chemicals） 

显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂（粘附剂）、定影液等。

一．紫外光刻胶（Photoresist）

1. 正胶：

AR-P 1200 喷涂用光刻胶（Spray Coating）

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