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美国Futurrex光刻胶PR1

来源：厦门良厦贸易有限公司 发布时间：2025-01-15 12:50:42

导体

NR9-PY

用于lift-off工艺，高黏附性、，耐高温

NR71-PY

用于lift-off工艺，高温，可作为间隔材料

NR9-P

高黏附性，适用于电镀和湿法刻蚀

NR71-P

做掩膜，适用于干法刻蚀，可作为间隔材料

NR21-P

100um的膜厚，具有良好的分辨率

NR5

可作厚膜掩膜，适用于离子刻蚀

PR1

耐高温，用于一般图案的正性光刻胶，离子刻蚀，湿法刻蚀








标签：美国Futurrex光刻胶

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